全球首款第二代 High NA EUV 光刻机正式出货

全球领先的光刻设备制造商近日宣布，其最新研发的第二代 High NA EUV 光刻机 EXE:5200 已正式出货，首个客户为英特尔，单台售价接近 30 亿元人民币。该设备相较前代产品具备更高的晶圆处理能力，可满足 2 纳米及以下制程的大规模生产需求。新款设备采用 0.55 数值孔径光学系统，在分辨率和精度方面显著提升，预计将推动多个先进制程节点的发展，并逐步应用于存储器制造。由于多方面因素限制，此类设备目前无法向中国地区的厂商供货。