三星电子计划投资 1.1 万亿韩元引进最新的 High-NA EUV 光刻机
2025 年 10 月 16 日
三星电子计划投入约 1.1 万亿韩元引进两台最新的 High-NA 双级极紫外(EUV)光刻机,此前仅在京畿道园区引进过一台用于研发的该设备,此次引进的将用于「产品量产」,计划年内引进一台,明年上半年再引进一台。
三星电子计划投资 1.1 万亿韩元引进最新的 High-NA EUV 光刻机
财联社 / 钛媒体 / 格隆汇 / 36Kr
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