三星冲击高端代工新挑战：削减 High-NA EUV 光刻机采购规模

三星计划削减对 High-NA EUV 光刻机的采购，并与 ASML 共同创建的研究中心项目遇到困难。原本三星计划在未来 10 年内采购多款 High-NA 光刻机，但现在仅计划采购 EXE:5200。这一决定是在公司高层人事变动和项目审查后做出的。同时，相关研究中心的建设进程也因设备引进减少而停止。研究中心的未来位置和是否继续建设将在进一步讨论中决定。