消息称三星将于 2025 年初从 ASML 引进 High-NA EUV 光刻机2024 年 10 月 30 日三星电子计划从 ASML 引进首台 High-NA EUV 光刻机 EXE:5000，预计 2025 年初到货，最快 2025 年中旬开始运行。该光刻机为先进制程所需设备，韩国业界预期三星将启动 1 纳米芯片的商用化进程。三星电子瞄准尖端技术：2025 年初将引进首台 ASML High NA EUV 光刻机！ITBear 科技资讯消息称三星将于 2025 年初从 ASML 引进 High-NA EUV 光刻机凤凰科技 / 36Kr消息称三星电子 2025 年初引进其首台 ASML High NA EUV 光刻机IT 之家 / 搜狐科技 / 中关村在线专业版功能登录体验专业版特色功能，拓展更丰富、更全面的相关内容。
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