可替代 EUV 光刻机 工艺直逼 1.4nm 日本开发全新纳米压印技术

日本是全球第二大光刻机供应商，正着力开发可替代 EUV 的光刻方案，选择了 NIL 纳米压印技术路线。日本 DNP 公司宣布开发出 10nm 的 NIL 纳米压印技术，可用于 1.4nm 工艺的逻辑芯片曝光，采用 SADP 自对准双重图案技术，能满足先进工艺逻辑芯片要求，功耗仅为当前主流工艺的 1/10 左右。该公司研发 NIL 技术超 20 年，其技术可部分替代 EUV 光刻，已与硬件供应商合作启动评估，预计 2027 年开始量产出货。