三星与应用材料合作，减少 4nm 工艺中 EUV 光刻使用

三星电子正与应用材料合作，评估其 Centura Sculpta 系统，以降低 4nm 工艺中 EUV 光刻的用量和成本。该系统通过图案塑形功能，精确定向修改晶圆特征图形的尺寸，增强 EUV 图案化性能，减少最关键图层的图案化次数，实现芯片性能和成本的优化。应用材料宣称，Centura Sculpta 系统可在每片晶圆上节约 50 美元的制造成本，并减少能源和水资源的消耗以及二氧化碳的排放。