ASML CEO：由于美国禁售 EUV 光刻机，中国芯片技术将落后西方 10-15 年

ASML（阿斯麦）首席执行官克里斯托夫・富凯（Christophe Fouquet）日前表示，由于美国对华禁止出口 EUV 光刻设备，与英特尔、台积电和三星等行业巨头相比，中国芯片技术将落后西方 10 年或 15 年，主要还是因为美国禁止出口 EUV（极紫外光）设备，导致中国无法获得尖端光刻机。