苹果新专利革新 Face ID：元件体积更小、成本更低、精度更高

苹果获批新专利，涉及下一代 Face ID 技术，采用超表面光学元件（MOE）替代传统衍射光学元件（DOE），集成光束分割与准直功能，缩小模组体积、降低成本并提升组装精度。同时，MOE 可优化光轴倾斜角度，增强 3D 映射精准度，并支持点状照明与泛光照明切换以适应不同场景。