清溢光电：55nm PSM 产品已进入客户上线认证阶段

清溢光电 55nm PSM 相移掩膜版产品已与客户签署保密协议并确认产品规格书，收到客户采购订单且已交货，进入客户上线认证阶段。该产品主要用于半导体芯片制造中对图形精度要求较高的关键光刻层，覆盖逻辑、存储、部分特色工艺及功率器件等高精密图形场景。若顺利完成客户认证并实现规模化批量供货，将完善公司高端半导体掩膜产品矩阵，提升盈利能力。