阿斯麦新一代 EUV 光刻机据悉已具备量产条件

荷兰光刻设备制造商阿斯麦高管称，新一代极紫外光刻机已准备好供芯片制造商大规模生产使用，单价约 4 亿美元，是初代 EUV 机型两倍。首席技术官马尔科・皮特斯表示，该设备已累计加工约 50 万片硅晶圆，停机时间极低，图案精度达量产标准。