SK keyfoundry 推出新型多层厚金属间电介质工艺
2025 年 9 月 23 日

韩国 8 英寸纯晶圆代工厂 SK keyfoundry 宣布推出具备高击穿电压特性的多层厚金属间电介质(Thick IMD)电容工艺,支持堆叠最多三层 IMD,每层最大厚度达 6 微米,预计用于制造数字隔离用电容器及抑制电容耦合的电容器。

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