示好美国 台积电 2nm 工艺被传放弃国产半导体设备及材料

台积电计划量产 2nm 工艺，首次采用 GAA 结构晶体管技术，并将淘汰国内半导体设备及材料，主要使用美、日、欧、韩设备。受影响的国产设备较少，主要涉及中微半导体的刻蚀机等。台积电此举部分是为了迎合美国政策，未来 2nm 工艺将逐步转移至美国生产。台积电回应称其采购策略基于风险管理及多元供应体系。