消息称三星将投资 10 万亿韩元用于半导体设备，大量采购 ASML EUV 光刻机

三星计划进口更多 ASML 极紫外 (EUV) 光刻设备，总价值可达 551 亿元人民币。目前 EUV 光刻设备的问题是产量有限，每年只能生产很有限的数量。目前需要且能购买到 EUV 光刻设备的厂商有五家，其中台积电约占供应量的 70%。三星电子的目标是在明年上半年进入 3nm 世代的第二代工艺，在 2025 年进入 2nm 工艺，在 2027 年进入 1.4nm 工艺。如果这 50 台设备的能够顺利交付，那么三星到 2028 年将能够拥有约 100 台设备。